可如今星逸科技成了国内顶级巨头,在国际上都所向披靡,干苹果,镇三星,打的HTC找不到北。
可以说,早已今非昔比!
没有任何意外,这一次,王逸的那份报告引起顶层高度重视,以及众多要员和院士的全力支持。
光刻机、光刻胶等项目,也成功地被列入国家战略核心项目,要求相关机构联合攻坚,投入巨资突破。
如今星逸半导体实现了40纳米芯片的自研自产,王逸的分量变得更重。
那份报告的含金量也会更高,相关项目的研发和投入,也会更恐怖!
说白了,一切都实力说话。
前世,为什么那么支持华为?
就是因为华为有底蕴,有能力,有技术,能做到其他企业做不到的突破。
同样,星逸科技也展示出了恐怖的实力。
苹果、三星、高通都做不到的基带集成,星逸半导体做到了。
中芯国际那么多年都搞不定的40纳米工艺,星逸晶圆厂搞定了,试产良品率就高达89%,后续只会更高。
华为都做不到的芯片自研自产,星逸科技做到了,还性能卓越。
如此成绩,全球都会震惊。
高层自然会高度关注,大力支持。
“王董,你放心,用不了几年,光刻机会突破,光刻胶也会突破!”赵老郑重道。
这年头的光刻机还是DUV光刻机,不像EUV光刻机那么难如登天,自然好突破。
同样,光刻机也只是28纳米,20纳米的中端光刻胶,不像前世5纳米,3纳米纳米的高端光刻胶那么困难。
说白了,当下和欧美的差距还很小。
因为王逸之前不知天高地厚的提议,官方提前布局,提前攻坚,完全可以在差距小的时候,提前追赶上欧美,甚至弯道超车。
前世,落后得太多。
那时候,欧美EUV都更新了好几代,并且投用了多年,咱们才奋起直追DUV光刻机,自然难。
可这一次,大家都还是DUV,那就简单了。
至于阿斯麦的EUV,目前还不成熟,正式投用还得好几年。
因为王逸的提议,提前追赶,前途可期。
“那再好不过,我相信国家机器的力量。”王逸笑说。
像是DUV光刻机,星逸科技要做,十年都难。
官方要做,有国家机器全力支持,五年就差不多搞定14纳米的DUV。
后续不断迭代升级,逐步提高精准度,达到10纳米,7纳米,不在话下。
毕竟阿斯麦2003年推出了第一代浸没式DUV1250i,最初也是造45纳米芯片的。